ANTcryo™ Analysis
— 材料电镜能谱分析专用
专为材料 TEM、STEM 及 EDS/EELS 分析设计。采用无碳非晶镍钛合金支持膜，彻底解决碳膜积碳干扰，确保元素定量分析准确性。
无碳设计，非晶结构，精准能谱分析的理想基底
行业痛点：积碳污染问题
在 STEM 和 EELS 分析中，碳支持膜在高能电子束照射下会分解产生碳沉积物。这些沉积物迅速覆盖样品表面，导致图像模糊、能谱基线异常，严重干扰元素定量分析。Janbroers 等（2009）实验表明：碳膜样品在聚焦束照射 4 秒后即形成明显碳沉积，而金属膜照射 5 分钟后表面仍保持清洁。
Janbroers et al. 2009, Fig. 6
碳膜上的 LaCaMnO₃ 晶体，聚焦电子束照射 4 秒后立即形成碳沉积（箭头所示），阻碍进一步分析。
Janbroers et al. 2009, Fig. 8
Au/Pd 金属膜在 plasma cleaning 后，即使聚焦束照射 5 分钟，表面仍保持清洁，无碳沉积形成。
图片来源：Janbroers et al., Microscopy and Microanalysis 2009 — 经出版社许可引用
我们的方案：针对积碳痛点，研发非晶态镍钛合金膜
结合无碳设计、非晶结构、良好导电性与优异机械性能四大核心优势，ANTcryo™ Analysis 为材料电镜能谱分析提供理想基底。
无碳设计
彻底消除碳峰干扰，确保 EDS/EELS 元素定量分析的准确性。传统碳支持膜在高能电子束照射下会分解产生碳沉积物，严重干扰能谱基线。ANTcryo™ Analysis 采用无碳非晶镍钛合金支持膜，从源头解决这一痛点。
非晶结构
无晶界应力、抗形变、抗疲劳。相比金膜，非晶结构更易于电镜调焦，提高观察效率。非晶镍钛合金膜在电子束照射下结构稳定，无晶格条纹干扰高分辨成像。
良好导电性
高导电、高导热，长效抑制荷电效应与电子束热漂移。镍钛合金的导电性能优于碳膜两个数量级，确保长时间 STEM 观测中样品位置稳定，数据可靠。
优异机械性能
机械韧性极强，耐受 plasma cleaning 及复杂操作。非晶镍钛合金的机械强度远高于传统金膜，在 FIB 切片、多次样品转移等操作中不易变形破损，降低样本丢失风险。
核心应用场景：EDS/EELS 长时间表征
高端 STEM、EDS、EELS 长时间表征是 ANTcryo™ Analysis 最核心的应用场景。传统碳膜在束下漂移大，面扫过程数据错位、重复性差；非晶镍钛合金膜高导热快速散除电子束局部热量，非晶结构无微观形变，可支撑 30–60 分钟长时间稳态面扫与元素分布分析。
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无碳背景
EDS/EELS 无碳峰干扰，定量准确
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低漂移
高导热，电子束热漂移极小
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长时间稳定
支撑 30–60 分钟连续面扫
代表样品：核壳结构、纳米异质结、多元素复合体系
更多应用场景
非晶镍钛合金支持膜适配场景
二维层状材料表征
代表样品：石墨烯、MoS₂、MXene、h-BN、黑磷等层状材料
适配孔径：1.0 μm（标准款）、0.8 μm
适配逻辑：二维薄片横向尺寸适配 1.0 μm 网格跨孔悬空观测；镍钛合金高导电消除荷电，高韧性防止片层撕裂褶皱，超低漂移满足高分辨 HRTEM 长时间拍照需求。
一维纳米材料
代表样品：碳纳米管、BN 纳米管、金属氧化物纳米线、半导体纳米线
适配孔径：1.0 μm、0.8 μm
适配逻辑：一维材料跨搭在微孔之上形成稳定支撑结构；非晶合金膜刚性强，长时间电子束照射下无蠕动形变，适合线扫描、大范围形貌表征。
中等尺寸纳米颗粒（50–100 nm）
代表样品：团聚型催化剂、合金粉体、陶瓷纳米颗粒
适配孔径：0.6 μm 优先（A05 型号，coming soon）
适配逻辑：0.6 μm 小孔径可有效拦截 50 nm 以上颗粒，大幅降低样品掉落风险；结合合金膜表面吸附力，兼顾支撑性与实验洁净度。A05 型号即将发布。
电子束敏感软性材料
代表样品：MOF/COF 有机无机杂化材料、高分子纳米片、脆弱生物衍生纳米结构
适配孔径：1.0 μm、0.8 μm
适配逻辑：金属膜高效导热散热，降低辐照损伤；高导电性杜绝荷电模糊，比碳膜、绝缘陶瓷膜更适合脆弱样品的长时间低剂量成像。
标准型号
ANTcryo™ Analysis 系列产品
材料电镜能谱分析支持膜，稳定供货。如需定制请联系 service@nanodim-world.com。
| 标准型号 | 载网材质 | 网格目数 | 孔径 | 孔边缘间距 | 请求报价 | 请求样品 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| A01-Au300-1.2/1.3 | 金（Au） | 300 | 1.2 μm | 1.3 μm | ||
| A02-Cu300-1.2/1.3 | 铜（Cu） | 300 | 1.2 μm | 1.3 μm | ||
| A03-Au400-1.2/1.3 | 金（Au） | 400 | 1.2 μm | 1.3 μm | ||
| A04-Au300-2.0/1.0 | 金（Au） | 300 | 2.0 μm | 1.0 μm | ||
| A05-Au300-0.6/1.0* | 金（Au） | 300 | 0.6 μm | 1.0 μm |
• 支持膜厚度：22 ± 3 nm。
• 支持其他不同载网目数和阵列孔规格的定制，请联系咨询。
• 包装规格：50 片 / 盒。
* A05-Au300-0.6/1.0 即将推出。
选型指南：如何选择合适孔径？
即 1.2/1.3 规格
适用：二维材料、纳米线、常规高分辨 STEM、100 nm 以上颗粒。标准量产款，稳定供货。
即 0.6/1.0 规格
适用：50–100 nm 细颗粒、强腐蚀体系、高洁净度实验。A05 型号即将发布，可接受预订。
用户反馈
催化材料表征 — 积碳问题
使用型号：A02-Cu300-1.2/1.3
普通微栅碳膜
ANT Analysis 支持膜
客户反馈：传统碳膜在 EDS 长时间面扫过程中产生明显碳沉积，干扰元素定量结果。更换 ANTcryo™ Analysis 后，碳峰完全消失，能谱基线干净，数据重复性显著提升。
催化材料表征 — 耐离子清洗
使用型号：A02-Cu300-1.2/1.3
等离子清洗前
等离子清洗 10 分钟后
客户反馈：ANTcryo™ Analysis 支持膜稳定性优异，可耐受长时间 plasma cleaning 处理，膜层无破损、无结构塌陷，满足高洁净度样品制备需求。